1. 概要 システムオンシリコン時代を迎え、今後ますます EDA技術の重要性は高まること と考えられる。 同時に、LSIプロセス技術の進歩による性能向上は著しく「設計 クライシス」(設計技術力の改善が、LSI集積度・高性能化に追いついていない) が指摘されている。 米国では The National Technology Roadmap of Semiconductors (1994), EDA Industry Standards Roadmap (1995)などが作成され 各種の技術標準化が推進されている。 このような中、EDA技術委員会に「EDAビジョン研究会」を発足させ、期待される LSI設計の将来像とこれを実現するための EDA技術ロードマップを描出する。 2. 使命 主として国内エレクトロニクス産業における設計ニーズに応えるために、2002年 の 高性能 LSI設計技術を描き、EDA技術課題を提示する。 また課題解決に向けて 業界関連機関、標準化機関などの取り組むべき方向を提示する。 3. 活動の成果 以下のアウトプットを作成する。 成果は国内外に向けて発信する。 (1) 2002年のハイエンド ASIC設計のニーズ調査に基づいた設計手法、 EDA技術課題、ロードマップの作成 (2) 課題実現に向けての業界関連機関との連携、EDA標準化活動への反映